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1
Untersuchungen zur Technologie und zum Prozeßablauf beim Unterpulver-Verbindungsschweißen mit Draht- und Bandelektroden in Tandemanordnung
VS Verlag für Sozialwissenschaften
Prof. Dr.-Ing. Friedrich Eichhorn
,
Dipl.-Ing. Klaus Blasig (auth.)
draht
bild
schweiben
parallelbandelektrode
schweibparameter
bandelektrode
heft
einflub
drahtelektrode
elektrode
lichtbogen
einsatz
sowie
probe
schmelzbad
elektrodenabstanden
uber
bandelektroden
elektrodenabstand
aufgrund
breiter
untersuchungen
abschmelzleistung
elektrodenabstandes
schlacke
tandemanordnung
wahrend
insbesondere
dagegen
einbrandtiefe
einzelbandelektrode
bzw
drahtneigungswinkel
breiten
zeigt
1cm
elektroden
hohen
mitteilungen
schweibtechnik
hohe
verbindungsschweiben
wechselstrom
abstand
gegenlage
bereich
infolge
schmelze
schweibgeschwindigkeit
schweibrichtung
Anno:
1981
Lingua:
german
File:
PDF, 4.27 MB
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/
0
german, 1981
2
Dynamisches Verhalten der Unterpulver-Schweißzone
VS Verlag für Sozialwissenschaften
Prof. Dr.-Ing. Friedrich Eichhorn
,
Dr.-Ing. Arnold Engel (auth.)
abb
schmelzbad
schmelzbades
schweibstromstarke
verlauf
elektrode
grundwerkstoff
stromungen
rontgen
urn
wahrend
schlacke
schweiben
zeitlicher
bewegungen
elektrodenabstand
kaverne
lichtbogens
schweibrichtung
kavernenlange
lichtbogen
vorgange
daher
kontrastwerkstoffes
schweibtechnik
unterpulver
abstand
aluminium
schweibkaverne
schweibspannung
schmelzbadbewegungen
schwankungen
schweibprozesses
stahl
welding
moglich
schweibstelle
veranderungen
zeitliche
zeitlichen
zusatzwerkstoff
berlin
einbrandtiefe
elektrodenabstandes
flir
franz
metallischen
schweibstromes
tropfenablosung
unterpulverschweiben
Anno:
1974
Lingua:
german
File:
PDF, 1.91 MB
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/
0
german, 1974
3
Abhängigkeit des Entladungsstroms der Diode vom Elektrodenabstand im »Ignited-Mode«
VS Verlag für Sozialwissenschaften
Lorin Kay Hansen
abb
diode
elektrodenabstand
annahme
dioden
doppelschicht
emitter
bzw
conference
elektronen
report
bereich
rasor
fe1
abhängigkeit
einfachen
ergibt
exp
folgt
mittlerem
randbedingungen
schicht
strom
theorie
thermionic
transportgleichungen
verhältnis
werte
ausdruck
elektrode
elektrodenabstände
ergebnisse
evd
ionen
plasma
wobei
zeigt
annual
berücksichtigung
construcci6n
conversion
doppelschichtbarriere
electronics
elektrodenabstandes
elektronentemperatur
emissionsstroms
evi
exponenten
funktion
gegeben
Anno:
1970
Lingua:
german
File:
PDF, 1.28 MB
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/
4.0
german, 1970
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